本發(fā)明屬于半導(dǎo)體制造,具體涉及一種mems通孔結(jié)構(gòu)及其制備方法。、在微機(jī)電系統(tǒng)(mems)的制造中,硅深刻蝕是實(shí)現(xiàn)三維結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵。業(yè)界長(zhǎng)期以來(lái)面臨著兩種各有顯著弊端的技術(shù)路線選擇:其一是深反應(yīng)離子刻蝕(drie)工藝,它能精確制造高深寬比的垂直結(jié)構(gòu),但其等離子環(huán)境會(huì)引入氟、硫等副產(chǎn)物,導(dǎo)致...